La teneur atmosphérique en trifluorure d’azote (NF3) serait quatre fois plus importante que les valeurs estimées par les scientifiques en l’absence de matériels de mesure précis. Les instruments de mesure ne permettant pas jusqu’alors la détection de faible teneur atmosphérique en NF3, la quantité totale de gaz relâchée dans l’atmosphère fut estimée à 1.200 tonnes alors que de récents travaux, entrepris par l’institut Scripps d’océanographie de l’Université Californienne de San Diego, mettent en évidence une quantité avoisinant 4.200 tonnes. Ce gaz à effet de serre, dont la contribution anthropique fut considérée comme quasi-nulle, n’a alors pas été intégré au protocole de Kyoto.

Le NF3 contribuerait ainsi à 0,15 pour cent de l’effet de serre d’origine anthropique. Si cette valeur semble faible comparée aux autres gaz à effet de serre, le pouvoir de réchauffement global du NF3 (indicateur regroupant l’effet de toutes les substances contribuant à l’effet de serre sous une même valeur) serait 17.000 fois plus important que celui du dioxyde de carbone.

Le trifluorure d’azote est un gaz utilisé dans la fabrication d’écran plat, de cristaux liquides, de microcircuits électroniques et de cellules photovoltaïques de nouvelle génération. Sa mesure atmosphérique n’est possible que depuis quelques mois grâce à de nouvelles techniques analytiques. Les chercheurs du Scripps ont alors mesuré la teneur atmosphérique en NF3 de différents échantillons d’air, prélevés depuis 30 ans dans le cadre d’un programme de la NASA visant à surveiller la couche d’ozone. Les résultats de ces analyses montrent une augmentation significative du NF3 au cours de ces trente dernières années : passant de 0,02 partie par trillions en 1978 à 0,45 en 2008. Ces travaux mettent en évidence une hausse de 11 pour cent de ce gaz pour l’année 2008.

L’utilisation du NF3 a largement augmenté dans le passé en raison de deux facteurs. D’une part, la demande croissante en écran plat et en microélectronique est responsable de l’utilisation d’une quantité toujours plus importante de ce gaz. D’autre part, le taux de rejet atmosphérique du NF3 ayant longtemps été considéré comme quasi-nul, ce gaz fut proposé par les industriels comme alternative aux PCF (hydrocarbures perfluorés) dont l’utilisation a été restreinte en raison de leur contribution importante à l’effet de serre. Si les chercheurs estimaient à seulement 2 pour cent, la quantité de NF3 s’échappant dans l’atmosphère, les mesures actuelles démontrent que cette valeur serait actuellement de l’ordre de 16 pour cent.

Le fait que la fabrication de cellules photovoltaïque puisse contribuer à l’effet de serre, donnera certainement des arguments à ceux qui pensent que la course technologique n’est pas une solution pour répondre à nos maux actuels..

Il reste à faire le ratio entre l’impact négatif de la production d’un panneau de cellules photovoltaïques (production de NF3), et l’impact positif (CO2 non émis) du même panneau.

Sources

Potent Greenhouse Gas From Computer Display And TV Manufacture Prevalent In Atmosphere. (Oct. 24, 2008). ScienceDaily. http://www.sciencedaily.com/releases/2008/10/081023120230.htm
- NF3, the greenhouse gas missing from Kyoto.(26/06/2008). Geophysical Research Letters, vol. 35. - http://www.agu.org/pubs/crossref/2008/2008GL034542.shtml
- Potent Greenhouse Gas More Prevalent in Atmosphere than Previously Assumed. (23/10/2008) - By Robert Monroe - Scripps Institution of Oceanography/UC San Diego - http://ucsdnews.ucsd.edu/newsrel/science/10-08GreenhouseGas.asp